

Primo SSC AD-RIE ? 是BBIN视讯-娱乐游戏官网於2013年推出的单眼應臺電介質刻蝕產品,,,,,在Primo AD-RIE ? 產品技術和Primo平臺看法的基礎上,,,,,通過在一個平臺上集成六個單反應臺以優化產能。。。。。。。 除了可獨立輸運氣體的单眼應臺腔體設計以外,,,,,為應對2x納米以下特別是接觸孔刻蝕等關鍵制程的挑戰,,,,,該設備還具有以下特征:同步脈衝射頻系統、可冷卻聚焦環工藝組件和甚低壓氣體抽運系統等。。。。。。。 Primo SSC AD-RIE有利於處理多層薄膜刻蝕的微負載問題、極端邊緣形貌問題以及接觸孔刻蝕的終端控制問題。。。。。。。 Primo SSC AD-RIE已在主流客戶16納米晶片生產線上穩定量產。。。。。。。

為26到10納米晶片製造提供創新的刻蝕解決计划
具有獨立氣體輸運系統的单眼應臺腔體設計
多區氣體調節以及雙區靜電吸盤溫度控制
高抽氣率,,,,,大容量分子泵
雙級同步脈衝射頻系統(低頻和高頻)
可冷卻聚焦環工藝組件,,,,,提升晶圓邊緣效能
高上下電極面積比,,,,,以應用於高深寬比結構刻蝕

高電介質資料刻蝕速率,,,,,多手段刻蝕均勻度調節
雙級同步脈衝射頻系統
先進氣體抽運系統,,,,,以進一步擴大工藝視窗
中高深寬比結構
