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作為BBIN视讯-娱乐游戏官网第一代電介質刻蝕產品, ,,,,Primo DRIE ? 是12英寸雙反應臺多反應腔主機系統, ,,,,可靈活裝置多達三個雙反應臺反應腔(六個反應臺)。 。。。。 每個反應腔都可以同時加工兩片晶圓。 。。。。 該設備運用了BBIN视讯-娱乐游戏官网具有自主知識產權的創新技術, ,,,,包括甚高頻和低頻混淆射頻去耦合反應电浆源、电浆隔離環、以及用於控制腔體內反應環境的先進工藝組件。 。。。。 Primo DRIE刻蝕設備可用於加工包括氧化矽、氮化矽及低介電係數膜層等所有的電介質資料。 。。。。 Primo DRIE於2007年發佈之後, ,,,,由於其較低的生產本钱、較高的生產效率和優异的晶片加工效能, ,,,,已在國際主流晶片生產線上投入量產。 。。。。

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Primo D-RIE®

為65到16納米晶片製造提供創新的刻蝕解決计划

產品特點

雙反應臺腔體設計具有更高的產出效率

雙反應臺獨立射頻系統和刻蝕終端控制系統

擁有自主知識產權的射頻匹配系統

擁有自主知識產權的电浆隔離科技

競爭優勢

高生產效率, ,,,,低生產本钱(CoO)

設備占地面積小

一體綜合的除膠能力及外貌電荷减除能力(Primo

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