Primo iDEA?（即“双反应台刻蚀除胶一体机”）源于BBIN视讯-娱乐游戏官网的一个新理念，，，，，，，即：将一个或两个双反应台D-RIE或AD-RIE工艺�？？？？？ ？？椤⒑鸵桓鲈冻痰壤胱犹逶闯浩鳎―sA）反应腔整合在统一个平台上。。 。。。。BBIN视讯-娱乐游戏官网的远程等离子体源除胶器接纳了双反应台腔体设计，，，，，，，顶置的远程等离子体源（RPS）爆发的活性反应物质，，，，，，，被匀称地运送到晶圆外貌以移除光刻胶。。 。。。。这种要领能够提高光刻胶移除效率，，，，，，，并降低等离子体直接接触晶圆的时机。。 。。。。这关于一些客户来说尤为主要，，，，，，，其芯片器件对外貌电荷极其敏感，，，，，，，保存等离子体诱发损伤（PID）的潜在危害。。 。。。。为相识决这方面的记挂，，，，，，，客户通常要支付重大的人力和物力修改整合计划，，，，，，，或者为每个办法（例如光刻胶移除）添置专用装备。。 。。。。拥有Primo iDEA整合系统后，，，，，，，客户可以在统一个平台上无邪地举行芯片晌蚀和光刻胶移除，，，，，，，显著镌汰装备占地面积，，，，，，，提高生产效率。。 。。。。Primo iDEA提供了具有本钱优势的解决计划。。 。。。。
为芯片晌蚀和光刻胶移除提供立异的整合解决计划
远程等离子体源
高效率除胶
高效离子隔滤，，，，，，，以阻止对器件造成等离子体诱发损伤
双反应台刻蚀与除胶整合一体机，，，，，，，显著减小占地面积
使用Primo iDEA?系统设计以取代单独的刻蚀和除胶系统，，，，，，，节约本钱20%以上
